當前位置:德國韋氏納米系統有限公司>>產品展示>>紫外掩膜對準曝光系統
OAI 200型光刻機和紫外掩膜曝光系統是一種經濟高效的高性能工具,采用行業驗證的模塊化組件進行設計,使OAI成為MEMS,納米技術和半導體設備行業的ling ...
45年來,OAI始終是紫外能量測試儀器領域的*應用商,其儀器用于半導體、微機電系統、晶圓封裝和晶圓植球行業中光刻工藝的可靠,精確校準控制。Model 659是一...
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